的方向。
比如，现在这个时代，光刻技术还处在汞灯光源的阶段，深紫外（DUV）激光光源技术正在实验室酝酿或刚刚起步。
而更遥远的极紫外（EUV）还只是一个理论概念。
还有，他大概了解到，电子束光刻虽精度高，但效率低下且无法量产，注定是技术歧路。
而DUV路径虽未成熟，却代表未来主流方向。
他知道，未来DUV中的浸没式光刻和最终的EUV光刻，才是推动摩尔定律继续向前的关键。
虽然现在谈EUV为时过早，但他可以指示未来的半导体公司先进制造装备事业部，从现在开始，就密切关注并适时介入DUV激光光源、精密光学、双工件台等核心子系统的研发。
而不是去浪费精力在那些看似“捷径”实则死胡同的技术上。
同样，在芯片设计领域，他知道精简指令集和复杂指令集的路线之争，知道未来移动设备和数据中心对低功耗、高性能处理器的巨大需求，也知道像台积电那样的纯晶圆代工模式最终会大放异彩。
这些表面方向性的先知，其价值甚至可能超过具体的技术细节。
它能让他在浩瀚如烟的技术路径和商业选择中，少走无数弯路，将宝贵的资源和时间，精准地投注在最有希望成功的赛道上。
这，就是他最大的优势之一。
英特尔与AMD这两家处理器公司虽然都已经创立十来年，可英伟达、高通、联发科这些处理器巨头都还没出现。
而光刻机这块，后世那家几乎垄断了高端光刻机市场的荷兰ASML公司，也同样还没出现。
所以，林浩然如今开始着手布局半导体领域，重点攻克芯片以及光刻机这两大核心，时机上虽然比英特尔、德州仪器等老牌巨头晚了许多。
但相比未来的英伟达、高通、ASML等，却可以说是赶在了它们崛起的前夜，甚至更早！
这是一个历史性的窗口期。
英特尔虽然已经崛起，但远未达到后世那种近乎垄断的地位，个人电脑市场也刚刚起步，格局未定。
AMD还在苦苦追赶。
日本企业在存储领域风光无限，但在逻辑芯片的CPU/GPU设计上并未形成绝对优势。
至于光刻机，目前还是日本尼康和佳能与美国GCA等公司争雄的时代，技术路线尚未完全收敛，后来一统天下的ASML直至19
本章未完，请点击下一页继续阅读！