光刻机。
虽然在这个时代，光刻机还没有获得“超精密尖端装备的珠穆朗玛峰”的头衔，但是伴随着光刻机的发展，其对技术的要求也就越来越高了。
也正因如此，相比于十几年前的35家光刻机制造商，现在SEA只剩下三家光刻机制造商，一个是GAD公司，他设计制造出了第一台接触式光刻机，是世界最早生产光刻机的企业，依靠先发优势以及与蔡司公司的合作，始终都是这一领域内的强者，再就是蔡司公司——其凭借先进的光学技术杀入光刻机市场，并且击败一个个对手。
第三个则国王试验室，相比于前两者，他的技术优势更加明显，六年前，其与国际电子公司，也就是世界上最大的半导体跨国公司——IEC，成立了KIEC公司。
虽然KIEC是最晚入局，但是凭借着其在光刻机技术领域的深耕，使得其一进入这一领域，就成为其中的佼佼者。
两个月前KIEC推出了I线光刻机，半导体制造中使用特定波长近紫外光源的光刻设备，其核心特征是采用365纳米波长的汞灯光源进行曝光工艺。从而实现0.35微米的特征尺寸。
也正凭借着这一优势，让KIEC一跃超过GAD，成为新一代的光刻机制造商的王者。
不过，无论是KIEC，还是GAD都离不开永宁蔡司，毕竟，他是光学技术的王者，正因为三家各有各的优势，所以在细分市场领域，他们都有自己的优势。
但是又有谁能够满足于此呢？
至少对于KIEC的经理伊曼纽尔来说，他并不满足于现况，或者说，他还有更高的追求。
“我们要成为王者！”
在餐厅里，看着面前的两位客人，伊曼纽尔说道：
“这个王者，是摘取光刻机领域内的王冠。”
在说话时，他的目光依次投在张敬业——他是GAD公司的老板，还有永宁蔡司经理奥托的身上，这次邀请是他发出的。
“众所周知，伴随着光刻机的技术进步，它对光学、精密机械、电气、测控、材料等多个单项技术的要求也越来越高，这也是大量企业被淘汰的原因，诸多在光刻机中都需要被推向极致，才能满足其分辨率、套刻精度和产率三大指标的严苛要求，而技术方面的复杂性也使得光刻机制造的产业生态复杂，研发投入成本高、研发组织管理难度大
本章未完，请点击下一页继续阅读！