第229章我们不是填补空白，是要定义空白本身
「经国家晶片制造产业专项领导小组审议，并报最高决策机构批准，即日起正式启动新一代，极紫外光刻晶片设计自动化工具开发工程。」
「由专项领导小组总设计师徐铭，担任技术路径，研发方案和资源调配最终决策人。」
10月16日，周五，华天科技公司。
总部大楼高层会议室内，项目办工作人员，在开始前宣布会议纪律。
现场出席人员，除总设计师徐铭外，还包括同为专项领导小组成员的院长余高远，相关领域院士专家，华天科技现任董事长孙庆丰，以及下属EDA架构工程师苏振豪等些许核心人员。
除此之外，科技部也派来了人参加。
晶片设计作为国产高端晶片制造产业链中，不可或缺的重要环节，项目等级和国产极紫外光刻机基本相同。
属于整个重大专项活动的其中一项。
不多时。
伴随著项目启动会正式开始，在致完开场词后，孙庆丰率先开口发言。
「针对徐总师提出的，开发新一代极紫外光物理效应EDA算法工具，我们华天拿出了初步方案。」
话落。
他的目光径直看向苏振豪，微笑著示意道：「苏组长你来给大家报告吧。」
「是董事长。」
无论怎么说，他们华天都是国内EDA龙头，在这种重大的具有战略性的项目上面，肯定要有所展示才行。
若拿不出任何内容，可就显得龙头位置，太水了点。
所以他才安排苏振豪制定了初步方案，并在项目启动会上进行报告。
好歹公司在此领域深耕数年，倒也不至于说，其方案丝毫拿不出手。
而与此同时，苏振豪肉眼可见的紧张。
主要准备的时间上，实在是太短，方案难免会有一些瑕疵不到位，加上还有几位院士，面对的压力可想而知。
最终在现场众人的注视，强行让自己平复，起身应了声便开始报告方案。
徐铭经过一周的高强度推导，成功得到了全新的极紫外光物质互相作用原理模型，他从底层基本粒子运动，量子效应和场论方程，得出简化模型经验公式，能够从理论上预测尚未被实验观察到的缺陷。
提高仿真精度。
另外他还发明了一种新的算法设想，最大程度缩短晶片OPC的计算时间。
原本在今天的项目启动会
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