克的193nmArF光源干式步进扫描式光刻机、配套完整90nm芯片设计体系，在整个军工科研圈，堪称颠覆性的破壁成果。
每次露面交流，现场永远不缺赞誉与惊叹。
“太不可思议了！纯国产自研193nm干式光刻机，这可是我们多年攻关未果的核心难题！”
“不止设备，连90nm军工芯片的整套设计方案、适配制程都一并落地，华创这一次，是直接补齐了我们的核心短板！”
“以前总觉得国内半导体和海外差距天堑一般，如今看来，我们终于有自主突围的底气了！”
此起彼伏的赞叹声环绕四周，几乎所有人都在感慨国产科技的突破。
但苏诚心里无比清楚，这些掌声与敬佩，大多不属于自己。
现场无数深耕数十年的老研究员、资深技术专家，目光大多聚焦在陈光南与梁景徽身上，眼底的敬佩真诚而厚重，私下的议论声从未停歇。
“梁工太厉害了，从零复刻整套晶圆厂产线与光刻机设备，硬生生打破海外技术垄断！”
“还有陈院士，90nm军工芯片适配、架构设计、制程优化，每一处细节都贴合国防标准，扎实又稳妥！”
“两位都是实打实的技术大拿，没有他们深耕攻坚，这套国产产线根本不可能落地！”